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离子源对透镜防蓝光镀膜工艺的影响-科技风2024年32期

离子源对透镜防蓝光镀膜工艺的影响

作者:鲁涛 陈李根 巫肇梅 熊辉 郭滨刚 字体:      

摘 要:此项研究基于物理气相沉积下的真空镀膜技术,可以有效实现防蓝光镜片镀膜工艺,采用高低折射率镀膜材料的搭配,在光谱分析测试设备中,有害蓝光波段(即可见光波长位于380~450nm)处,达到90%及以上反射(试读)...

科技风

2024年第32期